光刻材料中陰離子的測定
光刻工藝是半導(dǎo)體制造中最為重要的工藝步驟之一。主要作用是將掩膜板上的圖形復(fù)制到硅片上,為下一步進(jìn)行刻蝕或者離子注入工序做好準(zhǔn)備。光刻的成本約為整個硅片制造工藝的 1/3,耗費時間約占整個硅片工藝的 40~60%。一般的光刻工藝要經(jīng)歷硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘、對準(zhǔn)曝光、后烘、顯影、硬烘、檢測等工序。光刻膠是一種經(jīng)過嚴(yán)格設(shè)計的復(fù)雜、精密的配方產(chǎn)品,由樹脂、光引發(fā)劑、單體、添加劑等不同性質(zhì)的原料,通過不同的排列組合,經(jīng)過復(fù)雜、精密的加工工藝而制成。目前集成電路的集成水平已由原來的微米級水平進(jìn)入納米級水平,為了匹配集成電路的發(fā)展水平,制備超凈高純試劑的純度也由 SEMI G1 逐漸提升到 SEMI G4 級水平,對雜質(zhì)的檢驗?zāi)芰σ笠蚕鄳?yīng)提高。
(1)陰離子
分析柱:SH-G-1+SH-AC-11
流動相:15 mM KOH(EG)
流速:1.0 mL/min
柱溫:35℃
抑制器:SHY-A-6
進(jìn)樣體積:100 μL
前處理:稱取 2 g 樣品于 50 mL 樣品管中,加入 10 mL 去離子水,于 60℃水浴 1 h,取出冷卻至室溫,提取液過 0.22 μm 一次性針頭過濾器后進(jìn)樣分析。
色譜測量數(shù)據(jù)
PC 中陰離子譜圖
色譜測量數(shù)據(jù)
PP 中陰離子譜圖
色譜測量數(shù)據(jù)
ABS 中陰離子譜圖
(2)陽離子
分析柱:SH-G-1+SH-CC-3L
流動相:6 mM MSA(EG)
流速:1.0 mL/min
柱溫:35℃
抑制器:SHY-A-6
進(jìn)樣體積:100 μL
前處理:稱取 2 g 樣品于 50 mL 樣品管中,加入 10 mL 去離子水,于 60℃水浴 1 h,取出冷卻至室溫,提取液過 0.22 μm 一次性針頭過濾器后進(jìn)樣分析。
色譜測量數(shù)據(jù)
PC 中陰離子譜圖
色譜測量數(shù)據(jù)
PP 中陰離子譜圖
色譜測量數(shù)據(jù)
ABS 中陰離子譜圖
Related Products
查看詳情
查看詳情
查看詳情
查看詳情
related news
3月7日,嶗山區(qū)政協(xié)主席李鴻雁、嶗山區(qū)政協(xié)專職常委王京彪、嶗山區(qū)政協(xié)提案與委員室主任劉艷麗一行領(lǐng)導(dǎo)蒞臨青島盛瀚色譜技術(shù)有限公司(簡稱:盛瀚)調(diào)研指導(dǎo),盛瀚創(chuàng)始人朱新勇等人陪同參觀。 朱總對李鴻雁主席一行的到來表示歡
為幫助廣大粉絲更好的了解離子色譜相關(guān)知識,盛瀚聯(lián)合儀課通,為粉絲舉辦一場離子色譜專場活動,參與活動即有機會獲得離子色譜儀實操教程、離子色譜技術(shù)系列課程以及《離子色譜方法及應(yīng)用(第三版)》紙質(zhì)版書籍!想獲得獎勵的小伙伴快來掃碼參加吧!
近日,習(xí)近平總書記在中共中央政治局第三次集體學(xué)習(xí)時強調(diào):要打好科技儀器設(shè)備、操作系統(tǒng)和基礎(chǔ)軟件國產(chǎn)化攻堅戰(zhàn)。 近幾年,國產(chǎn)替代的腳步?jīng)]有停歇,各級政府對國產(chǎn)設(shè)備支持力度不斷加大。2021年,安徽省、甘肅省、四川省、山東省、
在環(huán)境科學(xué)領(lǐng)域,土壤與地下水作為生態(tài)系統(tǒng)的重要組成部分,其質(zhì)量直接關(guān)系到生態(tài)平衡與人類健康。然而,隨著工業(yè)化進(jìn)程的加速,陰離子污染物(如氟離子、氯離子、硝酸鹽、磷酸鹽等)的排放與滲漏問題日益凸顯,成為威脅土壤與地下水安全的主要因素之一。在這一背景下,陰離子色譜柱憑借其高效、精準(zhǔn)的分離與檢測能力,成為土壤、地下水陰離子污染溯源的關(guān)鍵工具。
為了更好的服務(wù)客戶,聚焦客戶資源,提升企業(yè)品牌影響力。11月23-24日,“2023 盛瀚色譜湖南湖北客戶培訓(xùn)交流會”在盛瀚園區(qū)順利舉行。來自湖南湖北兩省的疾控、環(huán)保、自來水等行業(yè)30余名客戶應(yīng)邀參與此次會議。 參