蝕刻液中陰離子的測定
在集成電路制造過程中,常需要在晶圓上定義出極細(xì)微尺寸的圖案,這些圖案主要的形成方式是藉由蝕刻技術(shù),將微影后產(chǎn)生的光阻圖案忠實(shí)的轉(zhuǎn)印至光阻下的材質(zhì)上,以形成集成電路的復(fù)雜架構(gòu)。因此蝕刻技術(shù)在半導(dǎo)體制造過程中占有極重要的地位。蝕刻技術(shù)大略可分為濕式蝕刻和干式蝕刻兩種技術(shù)。濕式蝕刻是利用特定的化學(xué)溶液將待蝕刻薄膜未被光阻覆蓋的部分分解,并轉(zhuǎn)成可溶于此溶液的化合物后加以排除,從而達(dá)到蝕刻的目的。大部分的蝕刻過程包含一個(gè)或多個(gè)化學(xué)反應(yīng),常見的是先將待蝕刻層表面予以氧化,再將此氧化層溶解,如此反復(fù)達(dá)到蝕刻的效果,因此蝕刻液大多由一種或多種酸溶液混合而成。離子色譜可檢測蝕刻液中的酸根離子,亦可檢測經(jīng)蝕刻后的電路板上酸根的殘留量。
色譜條件
分析柱:SH-AG-1+SH-AC-11
流動(dòng)相:13 mM KOH(EG)
流速:1.0 mL/min
柱溫:35℃
抑制器:SHY-A-6
進(jìn)樣體積:25 μL
前處理:樣品稀釋適當(dāng)倍數(shù)過 Na 柱和 0.22 μm 濾膜,進(jìn)樣分析。
蝕刻液中陰離子譜圖
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展會(huì)介紹 中國化學(xué)會(huì)第24屆全國色譜學(xué)術(shù)報(bào)告會(huì)及儀器展覽會(huì)由中國化學(xué)會(huì)色譜專業(yè)委員會(huì)、中國科學(xué)院大連化學(xué)物理研究所主辦。會(huì)議將集中交流我國在氣相色譜、液相色譜、毛細(xì)管電泳等色譜及其相關(guān)分離分析技術(shù)領(lǐng)域的研究、儀器開發(fā)和應(yīng)用,包括多
11月3日,盛瀚十五周年慶典前夕,“青島盛瀚第十八屆離子色譜技術(shù)研討會(huì)”在青島遠(yuǎn)洋大酒店如期舉辦,此次研討會(huì)旨在為盛瀚新、老用戶展現(xiàn)最新科技成果、提供全套應(yīng)用解決方案及現(xiàn)場技術(shù)指導(dǎo)。 為向大家更好地展示盛瀚風(fēng)貌,本日上午
離子色譜儀主要用于環(huán)境、食品、生物、醫(yī)學(xué)、化工等領(lǐng)域中常見陰、陽離子的檢測分析,是高效液相色譜的一種,是用來分析陰陽離子的色譜方法。下面是離子色譜儀在使用前須了解下面這些事項(xiàng):
青島盛瀚色譜技術(shù)有限公司成立于2002年,主要專注于離子色譜儀及其核心部件的研發(fā)、生產(chǎn),目前已攻克離子色譜領(lǐng)域“卡脖子”技術(shù),實(shí)現(xiàn)全產(chǎn)業(yè)鏈100%自主國產(chǎn),出口至全球70多個(gè)國家和地區(qū)。
隨時(shí)待命 是他們的工作態(tài)度,風(fēng)雨無阻是他們的工作信仰,他們就是盛瀚售后工程師,本期節(jié)目我們邀請(qǐng)到了售后部華南大區(qū)的黃偉明售后工程師,聽他講述與客戶的故事。